Газофазная эпитаксия

	Модель обрудования	Наибольший диаметр подложки, мм	Изготовитель
	Установка газофазной эпитаксии AIXTRON 200 MOCVD	50	AIXTRON (Германия)
	Установка газофазной эпитаксии AIXTRON 200 R2 MOCVD	50	AIXTRON (Германия)
	Установка газофазной эпитаксии AIXTRON 200 RF MOCVD	50	AIXTRON (Германия)
	Установка газофазной эпитаксии AIXTRON 2000 HT MOCVD	50	AIXTRON (Германия)
	Установка газофазной эпитаксии Easy Tube 101	50	FirstNano (США)
	Установка газофазной эпитаксии AIXTRON 2400 MOCVD	75	AIXTRON (Германия)
	Установка газофазной эпитаксии STE75	76,2	ЗАО «НТО» (Россия)
	Установка газофазной эпитаксии Veeco Pioneer P125 MOCVD	100	Veeco (США)
	Установка газофазной эпитаксии STE3N	100	ЗАО «НТО» (Россия)
	Установка газофазной эпитаксии STE35	100	ЗАО «НТО» (Россия)
	Установка газофазной эпитаксии STE3526	100	ЗАО «НТО» (Россия)
	Установка газофазной эпитаксии planarGROW-6E	150	planarTECH (Корея)
	Установка газофазной эпитаксии TNSC UR25K MOCVD	150	TNSC (Япония)
	Установка газофазной эпитаксии TNSC UR26K MOCVD	200	TNSC (Япония)